它是佳能在光刻机领域弯道超车的唯一希望。
它的问题佳能作为投入方，肯定比我们更清楚，佳能在明明知道存在问题的情况下，还要一直投入，说明它的潜力和问题是对应的。
但对我们而言，它的技术本身，就有着巨大的价值。
纳米压印光刻的本质，并不仅仅是一种芯片制造技术，它更是一种低成本、高效率的纳米级图案复制平台技术。
任何需要在大面积基板上，精确、大规模地制造微观或纳米级结构的领域，都是NIL技术潜在的应用场景。
通过在平面上蚀刻出大量纳米天线，可以制造出比纸还薄、但功能远超传统玻璃镜片的超构透镜。
简单来说，就是可以极大地缩小和简化相机镜头模组，手机摄像头不再有凸起的驼峰，AR/VR眼镜也可以变得像普通眼镜一样轻薄。
再者，它能够极大程度提高硬盘的存储密度，理论上能够提高7到10倍。
NIL是目前唯一有希望以足够低的成本，实现下一代硬盘的技术。
最重要的还是，我们能够通过这一技术，一窥高端光学镜头的奥秘，绕开现在的限制，直接去往未来。
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