星源科技在EUV光源领域的技术突破，像一道惊雷，劈开了自研光刻机路上的迷雾，可随之而来的，还有无数即将袭来的暗流。
一旦消息泄露，阿斯麦、卡尔蔡司那些国际巨头绝不会坐视不理，要么通过专利诉讼拖延进度，要么联合供应链施压，甚至可能动用盘外力量干预。
毕竟，半导体行业从来都不只是单纯的技术竞争，背后牵扯着太多的利益博弈。
星源科技的发展让人出乎意料！
与此同时。
沪城星源科技的光学研究实验室里，林南正带领团队进行第三次稳定性测试。
屏幕上跳动的数据流显示，13.5纳米波长的极深紫外光输出强度稳定在92%以上，能量转换效率为7.1%，远超阿斯麦所掌握的LPP光源。
这个数据，已经达到了商用标准！
但接下来，还有很多巨大的挑战和不确定性。
比如，脉冲放电和等离子体本身会产生巨大热量，旋转靶和液膜都需要极强的冷却能力，目前的热管理技术就不匹配。
开辟一条新路，虽然可以独享，但配套设备和技术都得自己慢慢摸索。
内容未完，下一页继续阅读