高振东拿起专用夹具，从带干燥剂的硅片架里，小心的夹起了一片单晶硅片，放到了工件台上，然后扳动开关，硅片被吸附固定。
这些单晶硅片已经经过清洗、干燥等处理，对光刻胶的附着力此时是最大的。
然后高振东退后一步，将接下来的试验交给了马娟。
要的就是一开始的那个爽感，至于具体操作，这些试验人员比他手脚麻利多了，专业的事情还是交给专业的人去做。
要说高振东这个光刻机原始，那是真的原始，固定好硅片后，马娟开动开关，硅片开始旋转。
这是高振东的设计，一步到位，光刻胶的涂布，他直接上了旋涂法，前世我们最早的光刻机是用什么方法涂布他不知道，但他知道综合性能肯定是旋涂法最好。
旋涂法在单晶硅片这种平坦的简单表面涂布，平坦化能力强，容易控制厚度，涂层密度大，厚度均匀，不是没有缺陷，但是可以接受和处理。
旋转很快达到了预设的转速，在涂料确定的情况下，涂层厚度这些涂布结果参数与转速高度相关，旋转的同时，工件台也在对硅片进行加热，这是为了进一步去除表面重新附着的水汽。
这些小细节，都是高振东从前世带过来的，不起眼，但是很重要。
加热时间满足预设要求之后，旋转也早已稳定，马娟拿起了滴管。
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