第610章国产光刻机的研发进程，至少缩短了十年！
自从星源科技与华科协会下属的光电所，联手研发出了‘磁约束放电等离子体光源’（即MDP）技术后，便开始着手攻克光刻机的第二大技术壁垒——光学系统。
毕竟，单是‘造出光’还不行，还得‘用好这束光’，才能完成晶圆曝光，进而实现芯片的生产制造。
可让陈延森顿感无奈的是，国内EUV光源激发方式的主流研发方向，基本以激光产生等离子体、放电等离子体或者激光诱导放电等离子体为主。
而星源科技光学部绝大多数工程师的技能和项目经验，都与研发需求不匹配。
所以在研发配套光学系统时，进度极为缓慢。
要知道，EUV光几乎会被所有物质吸收，因此无法使用传统的玻璃透镜，整个光路必须在真空环境中使用反射式光学系统。
收集镜、照明系统、投影物镜系统、掩膜版和掩膜台都得设计配套的技术方案。
MDP-EUV光源技术确实走出了一条独特的新路，但这种创新并非没有代价。
一切障碍，都要自己去扫平。
陈延森在获悉光学部的研发进度后，立马就绝望了。
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