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第610章 国产光刻机的研发进程,至少缩短了十年! (2 / 9)

作者:今月曾经照古河 最后更新:2025/9/23 1:47:22
        他心里清楚,若不给这帮人指条明路,恐怕五年、十年,都没法往前迈出一步。

        不得不说,他高估了林南团队的水平。

        他没想到,这么简单的配套技术方案,林南等人却在正确的路口边缘,足足蹭了四五十天,却无丝毫进展。

        于是,陈延森在开发出脉思(Mass)V1.0后,又马不停蹄地设计出了“多壳层掠入射椭圆收集镜系统”。

        这玩意本质上是一套精密的多层膜镜子,可以高效捕获EUV光源,并将其初步聚焦引导至照明系统里。

        难点主要有两个:收集效率和抗损伤能力。

        前者是因为EUV光线是向四面八方发散的,若想提升收集效率,就得设计复杂的多镜拼接结构,同时保证每片镜子的角度校准精度都要达到微米级。

        然而,任何角度上的偏差都会导致光线漏失,从而影响到收集效率。

        后者是因为等离子光源被激发后,会产生极高的温度,这就需要超强的抗损伤能力。

        收集效率要求多层膜具备“薄、匀、纯、无遮挡”等特性,以最大化反射率和角度适配性。

        而抗损伤能力要求多层膜又得“厚、硬、耐侵蚀”,必须增加额外保护层的材料。

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