默认冷灰
24号文字
方正启体

第610章 国产光刻机的研发进程,至少缩短了十年! (3 / 9)

作者:今月曾经照古河 最后更新:2025/9/23 1:47:22
        听起来很矛盾,但这也正是收集镜的技术难点所在。

        陈延森设计的这套“多壳层掠入射椭圆收集镜系统”,便很好地平衡了收集效率与抗损伤能力。

        不仅能够高效捕获由高功率脉冲放电、轰击金属锡靶产生的13.5纳米EUV光,还能将其汇聚到远处的中间焦点,为后续的照明系统提供足够功率且均匀的光束。

        与此同时。

        林南很快就发现了这封加密邮件,在打开技术文档后,先匆匆扫了一眼,接着就愣在了原地。

        老板发来的这套方案太完整了,从光学设计的构型、入射角,再到基底材料、反射涂层、热管理子系统和电磁场碎屑减缓系统,甚至连镀膜工艺的参数表、误差校准的算法模型都附带在内。

        此前光学部争论了半个月的“多镜拼接角度偏差”问题,文档里直接给出了“激光干涉实时校准”的解决方案,就连校准用的激光波长、采样频率都标注得一清二楚。

        林南猛地站起身,声音都有些发颤:“这简直是把答案写了出来!”

        技术文档里没署名,这套技术是老板买来的、抢来的,还是说除了星源科技光学部,森联资本其实另有研发实验室?

        林南坐在工位上,忍不住胡思乱想着。

        内容未完,下一页继续阅读
(←快捷键) <<上一章 举报纠错 回目录 回封面 下一章>> (快捷键→)

大家都在看?