默认冷灰
24号文字
方正启体

第610章 国产光刻机的研发进程,至少缩短了十年! (4 / 9)

作者:今月曾经照古河 最后更新:2025/9/23 1:47:22
        上次MDP-EUV光源技术的事,他就问过梁劲松和陈延森。

        梁劲松一头雾水,陈延森则让他别瞎打听,他也只能把满肚子好奇压在心底。

        可这一次,他又按捺不住了。

        实在是“多壳层掠入射椭圆收集镜系统”的技术太强了,完全是一套完整且成熟的技术方案,由不得他不多想。

        林南沉吟半晌,最后苦笑了一声,捏着手机的右手重新放下。

        他知道有些问题,别人不想说,就代表不能说,或者说根本没有答案。

        随后,他连忙召集核心研发人员开会。

        会议室内,当大家看到文档中“多壳层椭圆结构”的三维模型时,原本沉闷的气氛瞬间沸腾。

        光学系统设计组的主任工程师指着屏幕说道:“内层镜负责捕获中心60度范围内的EUV光,中层镜覆盖60到120度,外层镜补全120到180度,这样收集效率至少能提升到80%,压根就没法比,我们之前的那套方案跟垃圾有什么区别?”

        更让众人惊喜的是热管理子系统!

        内容未完,下一页继续阅读
(←快捷键) <<上一章 举报纠错 回目录 回封面 下一章>> (快捷键→)

大家都在看?