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第610章 国产光刻机的研发进程,至少缩短了十年! (5 / 9)

作者:今月曾经照古河 最后更新:2025/9/23 1:47:22
        文档中提出在镜体内部嵌入微通道水冷结构,搭配耐高温的钼铼合金基底,既能承受等离子体的高温冲击,又能避免温度过高导致多层膜脱落。

        “我们最担心的‘高温损伤’问题,这套方案竟然连水冷通道的直径、水流速度都算好了!”

        材料组的工程师翻到工艺参数页,激动地说道。

        “对了,林工!这个梯度涂层的方案,从钼硅多层膜到二氧化硅保护层,每层的厚度误差控制在0.1纳米以内,还得用脉冲激光沉积法分80次沉积,这精度咱们的设备能达到吗?”

        第610章国产光刻机的研发进程,至少缩短了十年!

        有人面露难色地担忧道。

        林南皱起眉头,看向设备组的主任工程师问道:“蔡司镀膜机在恒温恒湿环境下,能不能把精度稳定控制在0.05到0.1纳米之间?”

        设备组的主任工程师想了想,非常严谨地回答道:“连续沉积10层钼硅膜,厚度误差最小0.04纳米,最大0.09纳米,刚好能满足方案要求。

        但问题是,每次换靶材、调整激光功率时,误差会出现0.12到0.15纳米的波动,80次沉积下来,累积误差可能会超标。”

        林南思索片刻,给了一条解决思路:“那就加一道实时校准的流程,算法组先开发一套膜厚监测程序,跟镀膜机的传感器联动,每沉积10层,就自动暂停,用电子显微镜扫描膜厚。

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