【恭喜宿主获得奖励：原子光刻机研发技术！】
哇草——
原子光刻机？？
正在开车的洛云峥蛋蛋一震！
无数复杂的光刻机技术排队灌入他的脑海。
上一次的万分超级大奖是1nm芯片研发技术，近一个半月，他一直在私下研究消化，同时让沈夜子秘密前期筹备。
如果想生产出1nm芯片，必须拥有能承载1nm生产工艺的光刻机，因为芯片在设计之后，要经过一系列复杂的生产流程，而光刻是其中最重要的环节。
光刻机对于芯片，相当于“印刷机+雕刻刀”的综合体，即把芯片设计图以纳米级精度“印刻”到硅晶圆上，它决定了电路的最小线宽与关键尺寸，是整个制造流程的核心。
目前世界上的主流光刻机，根据光源不同，分为UV（紫外光源）、DUV（深紫外光源）、EUV（极紫外光源）。
其中EUV光刻机技术最先进，可以生产2nm芯片，荷国的阿丝麦公司是全球唯一量产EUV的供应商，苔积电、三星、英特尔为主要客户。
龙国的光刻机技术相对落后，仍处在DUV阶段，当然还有别的光刻模式，比如电子束光刻机，但国内最先进的光刻机只能生产7nm芯片，而且暂时未能量产。
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