拿华伟举例，华伟最新款旗舰手机MateXTS三折叠，芯片为麒林9020，工艺为龙芯国际7nm，该工艺采用的光刻机是荷国阿丝麦公司的浸没式DUV。
问：为什么不采用更高端的EUV光刻机？
答：荷国在米方的施压下实施出口管制。
因此，龙国的芯片行业一直被欧美卡着脖子，花高价都买不到高端光刻机。
系统传授洛云峥的光刻机是原子技术，原子光刻机与EUV等主流光刻机区别很大。
对比来看——
精度方面：原子光刻机的分辨率能突破0.3纳米，而当前最先进的EUV光刻机精度只能达到2nm。
能耗方面：原子光刻机与EUV光刻机相比，可将芯片制造能耗降低80%。
成本方面：原子光刻机的成本可压缩到EUV光刻机的1/5，要知道高端EUV光刻机的售价高达25亿/台，成本之昂贵，可见一斑。
一句话，原子光刻机吊打当今世界上最先进的EUV光刻机。
别说1nm芯片了，0.3nm都可以承制。
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